使复制光线分布图最佳化的方法专利登记公告

专利名称：使复制光线分布图最佳化的方法

摘要： 一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，使复制光线分布图最佳化的方法，其中，本方法包括以下步骤：a)在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而，没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图，b)划分成很细的区域测量由步骤a)所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，c)为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤b)中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。

专利类型：发明专利

专利号：CN00104539.3

专利申请（专利权）人：戈莱泰格成像贸易股份公司

专利发明（设计）人：瓦尔特·克拉夫特; 马克斯·纽斯保梅尔

主权项：权利要求书1．一种在照相复制机中内，于复制照相原件的过程中，使复制光线分布图最佳化的方法，其中该复制机至少包括以下部分：一个为复制过程产生复制光线的光源，一系列光学光导装置，用于将复制光线沿着光路从光源经过照相复制原件导向一个复制材料并照射透过照相原件同时将透过原层件的光投影到光敏复制材料上；以及一个局部透射调制器，在复制光对复制材料曝光之前，借助光导装置使复制光通过该调制器，该调制器的透射率是局部可控的，以便产生一个透射分布图，该调制器的透射分布图是根据待复制的照相原件为复制过程预先选定的，本方法包括以下步骤：a）在光路中设置一个已知透射分布图的透明元件，令光线照射透过该元件以便测量复制光的分布图，或者在光路中不设置透明元件，从而没有待复制的并具有未知透射分布图的照相原件存在于光路中，并进而特别为局部透射调制器提供一个透射分布图，b）划分成很细的区域测量由步骤a）所产生的复制光，测量复制光的分布图并与所期望的复制光线分布图进行比较，c）为将照相原件复制到复制材料上，根据步骤b）中的比较，使对于各个复制过程所预选的透射分布图最佳化。

专利地区：瑞士