改进的含浸机的电解液容置槽专利登记公告

专利名称：改进的含浸机的电解液容置槽

摘要：改进的含浸机的电解液容置槽，电解液容置槽由压缸伸缩轴撑持定位在真空槽内；电解液容置槽内设吸拭构件，吸拭构件包括伸缩弹簧、座板、衬垫、螺栓、调整螺栓及网板；电解液容置槽设套置伸缩弹簧、座板及衬垫的立柱，由垫圈和螺栓锁定座板；伸缩弹簧套设在电解液容置槽立柱外围，并借助其往上抵推座板；座板设穿孔供跨组在电解液容置槽立柱间，由伸缩弹簧顶推而在立柱上进行位移、复归活动，其中央设立柱而借助定位螺帽锁定调整螺栓；网板外径大于座板，水平固设在座板顶面，网板吸拭含浸后电容器表面多余电解液滴落入电解液容置槽电解液中；真空槽底部落水口外侧设控制阀，使蒸发后凝聚流入真空槽底部电解液，通过控制阀定时控制排放。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN200420029329.2

专利申请（专利权）人：曾世明

专利发明（设计）人：曾世明

主权项：1、一种改进的含浸机的电解液容置槽，电解液容置槽利用压缸伸缩轴撑持定位在真空槽内部；其特征在于，所述电解液容置槽内部设置吸拭构件，吸拭构件包括伸缩弹簧、座板、衬垫、螺栓、调整螺栓及网板；电解液容置槽设有供依序套置伸缩弹簧、座板及衬垫的立柱，再通过垫圈和螺栓锁定座板；伸缩弹簧套设在电解液容置槽立柱外围，并借助其往上抵推着座板；座板设有穿孔，供跨组在电解液容置槽立柱之间，且由伸缩弹簧顶推，并在立柱上进行下压位移、释放复归活动，其中央突设立柱而借助定位螺帽锁定调整螺栓；网板外径大于座板，水平固设在座板顶面。

专利地区：台湾