单介质层离线镀膜低辐射玻璃专利登记公告

专利名称：单介质层离线镀膜低辐射玻璃

摘要：一种低辐射玻璃，属于节能技术领域，具有单银层结构。该低辐射玻璃只采用一个介质层，其基本结构中，由下而上依次包括玻璃基底10、银层11、介质层12；所述的介质层由1到10个子层构成，子层由硅薄膜、硅合金薄膜、硅氧薄膜、硅氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧薄膜、硅合金氮薄膜、硅合金氧氮薄膜、过渡金属氮薄膜等构成。采用本发明的低辐射玻璃，不仅性能稳定，可靠性高，而且生产效率高，可大大降低成本，有利于大规模推广应用。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910238533.2

专利申请（专利权）人：李德杰

专利发明（设计）人：李德杰

主权项：低辐射玻璃，具有单银层结构，其基本结构中，由下而上依次包括玻璃板10、银层11、介质层12，其特征在于：介质层12由1至10个子层组成，构成子层的材料包括氧化锌薄膜、氧化锡薄膜、氧化铟锡薄膜、硅薄膜、硅和其它金属组成的以硅为主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等，构成子层的材料还包括铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氧化物和氮化物薄膜，构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅

专利地区：北京