用于梯度纳米空隙制品的方法专利登记公告

专利名称：用于梯度纳米空隙制品的方法

摘要：本发明描述了用于产生梯度纳米空隙制品、具有梯度纳米空隙的涂层和梯度低折射率涂层的方法和装置。所述方法包括提供可聚合材料在溶剂中的第一溶液，并且提供邻近所得涂层的第一区域的第一环境和邻近该涂层的相邻区域的不同的第二环境。所述方法还包括至少部分地聚合所述可聚合材料以形成包含不溶性聚合物基质和第二溶液的组合物。所述不溶性聚合物基质包括被第二溶液填充的多个纳米空隙，并且从第二溶液移除绝大部分的溶剂。所述多个纳米空隙在邻近所述涂层的所述第一区域处的第一体积分数小于所述多个纳米空隙在邻近所述涂层的所述相邻区域处的第二

专利类型：发明专利

专利号：CN201080046867.0

专利申请（专利权）人：3M创新有限公司

专利发明（设计）人：亚当·D·哈格;威廉·F·埃德蒙兹;杰森·S·佩泰耶;埃里克·W·纳尔逊;威廉·布雷克·科尔布;郝恩才;吕菲;迈克尔·本顿·弗里

主权项：一种用于产生具有梯度纳米空隙的涂层的方法，所述方法包括：向基材上涂布在溶剂中包含可聚合材料的第一溶液；提供邻近所得涂层的第一区域的第一环境和邻近该涂层的相邻区域的不同的第二环境；至少部分地聚合所述可聚合材料，以形成与多个纳米空隙和第二溶液双连续的不溶性聚合物基质，所述多个纳米空隙被所述第二溶液填充，其中所述多个纳米空隙在邻近所述涂层的所述第一区域处的第一体积分数小于所述多个纳米空隙在邻近所述涂层的所述相邻区域处的第二体积分数；以及从所述第二溶液中移除绝大部分的所述溶剂。

专利地区：美国