管筒状工件内表面离子注入装置专利登记公告

专利名称：管筒状工件内表面离子注入装置

摘要：管筒状工件内表面离子注入装置，它涉及一种等离子体处理装置。气体源(1)与真空室(4)相连通，绝缘支架(6)固定在真空室内，管筒状工件(7)安装在绝缘支架上，中心电极(3)的左端设置在管筒状工件的中心处，中心电极的左端头(3-2)裸露，中心电极的中部穿过真空室的侧壁的孔(4-1)，中心电极的右端与传动机构(5)连接，中心电极与管筒状工件之间形成既旋转又相对直线移动，高压脉冲电源(2)的负极与管筒状工件连接，高压脉冲电源的正极与中心电极连接。它不需外加等离子体，在适当的气压范围和适当的注入电压条件下，只要高压脉冲存在，离子注入就可进行，若采用含碳气体可形成涂层，中心电极与工件的相对转动能实现管筒状工件内表面均匀高效的离子注入效果。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN02275566.7

专利申请（专利权）人：哈尔滨工业大学

专利发明（设计）人：田修波;杨士勤

主权项：1、管筒状工件内表面离子注入装置，它包括气体源(1)、真空室(4)，它还包括有高压脉冲电源(2)、中心电极(3)、绝缘支架(6)、绝缘套(9)、传动机构(5)，其特征在于气体源(1)与真空室(4)相连通，绝缘支架(6)固定在真空室(4)内，管筒状工件(7)安装在绝缘支架(6)上，中心电极(3)的左端设置在管筒状工件(7)的中心处，中心电极(3)的左端头(3-2)裸露，中心电极(3)的其余部分套在绝缘套(3-1)内，中心电极(3)的中部穿过真空室(4)的侧壁的孔(4-1)，中心电极(3)的右端与传动机构(5

专利地区：黑龙江