管筒状工件内壁等离子体注入装置专利登记公告

专利名称：管筒状工件内壁等离子体注入装置

摘要：管筒状工件内壁等离子体注入装置，它涉及一种管筒状工件内壁的表面强化装置。由于管筒状工件特定的空间几何尺寸决定离子注入强化方法的应用受到了限制，由于离子注入中离子行走轨迹的直线性(视线性)，使得长管内壁注入几乎不可能。本实用新型包括真空室(1)、中心电极(2)，中心电极(2)轴向穿过管筒状工件(3)的内腔并与电源(6)的正极连接，管筒状工件(3)与高压电源(6)的负电极相连，在管筒状工件(3)的腔体内所述中心电极(2)的外部套有磁体(4)，所述管筒状工件(3)设置在真空室(1)内。它克服了管筒内等离子体对等离子体扩散特性的依赖和管筒内部空间尺寸的限制，提高了气体的离化率，注入效率大大提高。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN02275573.X

专利申请（专利权）人：哈尔滨工业大学

专利发明（设计）人：田修波;杨士勤

主权项：1、一种管筒状工件内壁等离子体注入装置，它包括真空室(1)、中心电极(2)，其特征在于中心电极(2)轴向穿过管筒状工件(3)的内腔并与电源(6)的正极连接，管筒状工件(3)与高压电源(6)的负电极相连，在管筒状工件(3)的腔体内所述中心电极(2)的外部套有磁体(4)，所述管筒状工件(3)设置在真空室(1)内。

专利地区：黑龙江