激光雕刻机的二维扫描机构专利登记公告

专利名称：激光雕刻机的二维扫描机构

摘要：本实用新型提供一种激光雕刻机的二维扫描机构，主要包括机架、X、Y方向扫描机构、与激光发射系统连接的输入口、聚焦装置，二维扫描机构上有吸附定位机构。其吸附定位机构用真空发生系统与真空吸盘连接，吸盘裙部是由弹性材料制作，吸盘裙口距裙边2～5mm处有加强筋，裙口的直径Φ为30～40mm。二维扫描控制机构由伺服电机驱动。二维扫描机构上有与导光系统连接的激光导入口，激光导入后通过扩束望远镜、折反镜进入激光聚焦装置，聚焦装置的输出焦距是20～60mm。在吸附定位机构与二维扫描机构机架之间有定位调节螺栓。二维扫描机构的扫描范围是X×Y＝60～120×30～60mm。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN02279406.9

专利申请（专利权）人：武汉楚天激光（集团）股份有限公司

专利发明（设计）人：孙文;辛天才

主权项：1、一种激光雕刻机的二维扫描机构，主要包括机架、X、Y方向扫描机构、与激光发射系统连接的输入口、聚焦装置，其特征是，二维扫描机构上有吸附定位机构。

专利地区：湖北