光学元件的制造方法专利登记公告

专利名称：光学元件的制造方法

摘要：本发明可以防止形成在棱镜上的反射膜中的微小的透射部的位置偏差。其中，使用掩模部件(4)在平板形状的透明基板(1)上形成一体地形成了缝隙图案的反射膜(2)，通过沿切开线(2A)切断透明基板(1)获得基板块(5)。分别将基板块(5)的没有形成反射膜(2)的面的两端研磨到刻度(2C)的位置，将这样的第1棱镜结构片(8)与第2棱镜结构片(8C)接合，然后通过沿与上述切断方向垂直的方向切断获得最终的正四棱柱棱镜(20)。

专利类型：发明专利

专利号：CN200510056360.4

专利申请（专利权）人：富士能佐野株式会社

专利发明（设计）人：横山岩;关口隆史

主权项：1.一种光学元件的制造方法，其特征在于，包括以下工序：在呈平板状形状的大块透明基板的表面上形成金属膜的工序；用掩模部件一体地形成曝光图案的复制掩模的工序，所述掩模部件包括：用来在上述透明基板上形成作为沿透明基板的一个方向切断成长方形而获得多个基板块时的基准的切开线的切开线掩模部，用来形成作为研磨上述基板块时的研磨界限的刻度的刻度掩模部，用来在上述基板块上形成透射部的图案掩模部；剥离形成了上述曝光图案部分以外的金属膜的工序；在上述透明基板的整个表面形成反射膜的工序；将曝光图案区域的金属膜及反射膜从上述透明基

专利地区：日本