放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件专利登记公告

专利名称：放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件

摘要：本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a3)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和下式(1)所示的骨架的不饱和化合物，(式中，R表示氢或甲基，n是2～1 0的整数)(a3)是上述(a1)～(a2)成分以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]放射线敏感性聚合引发剂。

专利类型：发明专利

专利号：CN200610058552.3

专利申请（专利权）人：JSR株式会社

专利发明（设计）人：一户大吾;浜口仁;梶田彻

主权项：1.一种用于形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a3)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和下式(1)所示的骨架的不饱和化合物，式中，R表示氢或甲基，n是2～10的整数；(a3)是上述(a1)～(a2)成份以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]放射线敏感性聚合引发剂。

专利地区：日本