液晶显示器下基板的制作方法专利登记公告

专利名称：液晶显示器下基板的制作方法

摘要：本发明公开了一种液晶显示器下基板的制作方法，包括步骤：(a)于一基板的一第一表面上形成一图样化的第一金属层，一第一绝缘层，一图样化的第二金属层以及一第二绝缘层；(b)于第二绝缘层上形成一透明电极层与一负型光刻胶层；(c)自基板的一第二表面进行曝光；(d)利用一光罩遮蔽负型光刻胶层，并自第一表面进行曝光；以及(e)移除未反应的负型光刻胶，并进行刻蚀以形成一图样化的透明电极。本发明方法是利用背面曝光的方式，以第一金属层与第二金属层作为光罩，进行曝光，形成像素电极，且其寄生电容产生值在容许范围内。

专利类型：发明专利

专利号：CN200610076371.3

专利申请（专利权）人：广辉电子股份有限公司

专利发明（设计）人：洪孟逸

主权项：1.一种液晶显示器下基板的制作方法，包括下列步骤：(a)于一基板的一第一表面上形成一图样化的第一金属层，一第一绝缘层，一图样化的第二金属层以及一第二绝缘层，其中该第一金属层为该第一绝缘层所覆盖，该第二金属层位于该第一绝缘层之上，且该第二金属层为该第二绝缘层所覆盖；(b)于该第二绝缘层上形成一透明电极层与一负型光刻胶层，其中该透明电极层是介于该第二绝缘层与该负型光刻胶层之间；(c)自该基板的一第二表面进行曝光；(d)利用一光罩遮蔽该负型光刻胶，并自该第一表面进行曝光；以及(e)移除未反应的该负型光刻胶，并进

专利地区：台湾