黑光阻及其制备方法和构图方法专利登记公告

专利名称：黑光阻及其制备方法和构图方法

摘要：本发明涉及黑光阻及其制备方法和构图方法。黑光阻包括：重量百分比为5％～45％的黑颜料、重量百分比为0.5％～67％的分散剂、重量百分比为0％～5％的助分散剂、重量百分比为0.05％～30％的分散树脂、重量百分比为0.05％～30％的碱可溶性树脂、重量百分比为2％～22％的乙烯性不饱和单体、重量百分比为0.05％～10％的环氧树脂、重量百分比为25％～80％的有机溶剂、重量百分比为0.15％～10％的光引发剂、和重量百分比为0.01％～2％的添加剂。本发明黑光阻粒度小，粒度分布范围窄，具有较高的存储稳定性；

专利类型：发明专利

专利号：CN200810225982.9

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司

专利发明（设计）人：杨久霞;赵吉生;白峰

主权项：一种黑光阻，其特征在于，包括：重量百分比为5％～45％的黑颜料、重量百分比为0.5％～67％的分散剂、重量百分比为0％～5％的助分散剂、重量百分比为0.05％～30％的分散树脂、重量百分比为0.05％～30％的碱可溶性树脂、重量百分比为2％～22％的乙烯性不饱和单体、重量百分比为0.05％～10％的环氧树脂、重量百分比为25％～80％的有机溶剂、重量百分比为0.15％～10％的光引发剂、和重量百分比为0.01％～2％的添加剂。

专利地区：北京