防止过早干燥的装置、系统和方法专利登记公告

专利名称：防止过早干燥的装置、系统和方法

摘要：一种用于防止制造操作之间基片表面过早干燥的装置、系统和方法，包括接收待清洁的基片，对该基片表面执行使用多种制造化学物质的多个清洁操作以从该基片表面除去在一个或多个制造操作过程中留下的污染物和制造化学制品，识别饱和气体化学物质并在过渡区域中施加该识别的饱和气体化学物质从而暴露于该过渡区域中的该饱和气体化学物质的该基片表面保持该湿度，由此防止该基片表面过早干燥。该饱和气体化学物质在两个连续的湿法清洁操作之间施加。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880016041.2

专利申请（专利权）人：朗姆研究公司

专利发明（设计）人：尹秀敏;马克·威尔考克森

主权项：一种用于防止制造过程中的各制造操作之间基片表面过早干燥的装置，该装置包含：用于接收和支撑该基片的基片支撑器件；以及设置于环境可控室中的气体化学物质施加器，该气体化学物质施加器被配置为接收并向该基片表面施加饱和气体化学物质，施加的该饱和气体化学物质基本上容纳于过渡区域中，其中该基片表面暴露于该环境可控室中的环境空气，在各制造操作之间施加该饱和气体化学物质提供该基片表面在该过渡区域中的各向同性的暴露，从而暴露于该过渡区域中的该饱和气体化学物质的该基片表面保持了该基片表面上的湿度，防止该基片表面在各制造操作之间

专利地区：美国