含有卤素的二萘嵌苯四甲酸衍生物及其用途专利登记公告

专利名称：含有卤素的二萘嵌苯四甲酸衍生物及其用途

摘要：本发明涉及式(I)化合物，其中Y1和Y2各自为O或NRa或NRb，其中Ra和Rb为H或有机基团；Z1-Z4为O或S；R11-R14，R21-R24为Cl、F；其中R11-R14，R21-R24基团中的1或2个也可为CN和/或R11-R14，R21-R24基团中的1个可为H；以及其中当Y1为NRa时，Z1或Z2也可为NRc，其中Ra和Rc一起为具有2-5个原子的桥连基团X；以及其中当Y2为NRb时，Z3或Z4也可为NRd，Rb和Rd一起为具有2-5个原子的桥连基团X；一种制备它们的方法，及其作为发射体材料、

专利类型：发明专利

专利号：CN200880103620.0

专利申请（专利权）人：巴斯夫欧洲公司

专利发明（设计）人：M·克内曼;G·麦特恩;G·韦伯

主权项：通式(I)化合物作为发射体材料、电荷输送材料或激子输送材料的用途：其中Y1为O或NRa，其中Ra为氢或有机基团，Y2为O或NRb，其中Rb为氢或有机基团，Z1、Z2、Z3和Z4各自为O或S，和R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团各自为氯和/或氟，其中R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团中的1或2个也可为CN和/或R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23和R24基团中的一个可为氢，和其中，在Y1为NRa的情况下，Z1和Z2基团中的一个

专利地区：德国