用于光致抗蚀剂组合物的聚合物专利登记公告

专利名称：用于光致抗蚀剂组合物的聚合物

摘要：一种聚合物，它包含(i)两个或更多个选自以下的重复单元其中R61、R62、R63和R65中的每一个单独地选自氢或C1-4烷基；R64是C1-4烷基；和(ii)至少一种附加的选自以下的重复单元其中R61、R62、R63、R64和R65各自单独地选自氢或C1-4烷基，n是0-3的数，可用作光致抗蚀剂组合物的组分。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880104250.2

专利申请（专利权）人：AZ电子材料美国公司

专利发明（设计）人：S·查克拉帕尼;M·帕德马纳本;M·迪亚加拉詹;工藤隆范;D·L·伦特奇维茨

主权项：聚合物，它包含(i)两种或更多种选自以下的重复单元其中R61、R62、R63和R65中的每一个单独地选自氢或C1-4烷基；R64是C1-4烷基；和(ii)至少一种附加的选自以下的重复单元其中R61、R62、R63、R64和R65各自单独地选自氢或C1-4烷基，n是0-3的数。FPA00001035002300011.tif,FPA00001035002300021.tif

专利地区：美国