薄膜涂覆系统和方法专利登记公告

专利名称：薄膜涂覆系统和方法

摘要：一种用于在基片上沉积薄膜的方法和系统。在系统中，目标材料沉积在基片表面上并进行反应，以便形成基本无吸收薄膜。每单位时间形成的无吸收薄膜的容积可以这样增加，即通过使得表面面积增加到“x”倍，并使得目标材料沉积速率增加到大于倍数“x”的倒数的倍数，从而增加每单位时间的无吸收薄膜的容积形成速率。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880106268.6

专利申请（专利权）人：沉积科学公司

专利发明（设计）人：N·L·博林;M·雷恩斯;H·R·格雷

主权项：一种在反应涂覆系统中增加每单位时间形成的无吸收的薄膜的容积的方法，其中，目标材料沉积在一个或多个基片的表面上并在该表面上进行反应，以便形成基本无吸收的薄膜，该方法包括：使基片表面面积增加到x倍；以及使得目标材料的沉积速率增加到大于倍数x的倒数的倍数，从而增加每单位时间的无吸收的薄膜的容积形成速率。

专利地区：美国