用常压等离子体透明涂覆基材的方法专利登记公告
专利名称：用常压等离子体透明涂覆基材的方法
摘要：本发明涉及通过等离子体处理、优选通过常压等离子体处理而改进在透明材料上的涂层性质的方法。
专利类型：发明专利
专利号：CN200880106714.3
专利申请（专利权）人：西门子公司
专利发明（设计）人：F·埃德;R·根斯勒
主权项：处理透明涂层、特别是透明基材的透明涂层的方法，其包括等离子体处理。
专利地区：德国
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