厚膜抗蚀剂专利登记公告

专利名称：厚膜抗蚀剂

摘要：本发明涉及尤其适用于使厚膜成像的光敏性光致抗蚀剂组合物，其含有树脂粘合剂。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880108713.2

专利申请（专利权）人：AZ电子材料美国公司

专利发明（设计）人：M·A·托西;M·鲍内斯库

主权项：包含树脂粘结剂的光致抗蚀剂组合物，所述树脂粘结剂选自：(1)在没有催化剂的情况下由(i)和(ii)形成的反应产物，(i)包含取代或未取代的羟基苯乙烯和丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的混合物的聚合物，该丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯被酸不稳定基团保护，该酸不稳定基团要求高活化能来解封，(ii)选自乙烯基醚和未取代或取代的杂脂环族的化合物；(2)在没有催化剂的情况下由(i)酚醛清漆聚合物，(ii)含2-7个酚基的多羟基化合物和(iii)选自乙烯基醚和未取代或取代的杂脂环族的化合物形成的反应产物；(

专利地区：美国