用于处理用于半导体基底的运送和大气下储存的运输支撑件的方法,以及用于实施这种方法的处理站专利登记公告

专利名称：用于处理用于半导体基底的运送和大气下储存的运输支撑件的方法,以及用于实施这种方法的处理站

摘要：本发明的目的是提供一种用于半导体基底的运送和储存的运输支撑件(1)的处理方法，所述支撑件(1)可以首先经历使用液体的清洁操作。该方法包括处理阶段，其中运输支撑件(1)被放置在连接到真空泵(5)的密封室(4)中，并且所述运输支撑件(1)受到低于大气压力的压力和红外辐射的结合作用，以促进在运输支撑件(1)的壁上的外来物质的去除。本发明还涉及用于实施上述方法的用于运输支撑件(1)的处理站。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880110810.5

专利申请（专利权）人：阿尔卡特朗讯

专利发明（设计）人：欧文·戈多;雷米·托莱;阿诺·法夫雷

主权项：一种用于运送和储存基底的运输支撑件(1)的处理方法，其特征在于：所述方法包括处理阶段，在所述处理阶段期间，在所述运输支撑件(1)上的待处理表面(1a)受到低于大气压力的气态压力(PSA)和红外辐射(IR)的结合作用，以从所述待处理表面(1a)除去外来物质。

专利地区：法国