气体精制方法专利登记公告

专利名称：气体精制方法

摘要：本发明的气体精制方法，使用具有分子筛作用的碳膜，对含有10ppm以下杂质的选自由氢化物气体、卤化氢气体和卤素气体构成的组中的至少一种进行精制。本发明可适用于回收已使用完的气体并重新用作超高纯度的半导体材料气体的回收装置，以及可适用于制造或填充超高纯度的半导体材料气体的装置或设备。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880110834.0

专利申请（专利权）人：大阳日酸株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所

专利发明（设计）人：宫泽让;小林芳彦;原谷贤治;吉宗美纪

主权项：一种气体精制方法，使用具有分子筛作用的碳膜对含有10ppm以下杂质的选自由氢化物气体、卤化氢气体和卤素气体构成的组中的至少一种进行精制。

专利地区：日本

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