新型噻吩系染料及其制备方法专利登记公告

专利名称：新型噻吩系染料及其制备方法

摘要：本发明涉及一种噻吩系染料及其制备方法，更具体地，涉及用于染料敏化太阳能电池(DSSC)的染料化合物，与传统的染料相比，其具有更高的摩尔消光系数、Jsc(短路光电流密度)和光电转换效率，从而增强了太阳能电池的效率。

专利类型：发明专利

专利号：CN200880111572.X

专利申请（专利权）人：株式会社东进世美肯

专利发明（设计）人：裴镐基;李钟灿;金钟福;文炯敦;朴泰镇;白宗协;杨会泽;安贤哲

主权项：一种由以下化学式1表示的噻吩系染料，所述的噻吩系染料包括：[化学式1]其中，R1是或者并且X、Y和Z独立地是氢或者C1-30烷基、C1-30烷氧基或者C1-30杂烷氧基；R2和R3独立地包括氢、卤原子、酰胺基、氰基、羟基、硝基、酰基、C1-30烷基、C1-30烷氧基、C1-30烷基羰基或者C6-20芳基；并且如果它们是C1-30烷氧基时，则这些基团相互结合以形成含氧杂环；Ar1是被C1-50的下列基团：烷基、烷氧基、卤原子、酰胺基、氰基、羟基、硝基、酰基、芳基或者杂芳基取代的或者未被取代的C1-50的烷基

专利地区：韩国