TFT-LCD阵列基板及其制造方法专利登记公告

专利名称：TFT-LCD阵列基板及其制造方法

摘要：本发明涉及一种TFT-LCD阵列基板及其制造方法。阵列基板包括形成在基板上的栅线和数据线，栅线和数据线限定的像素区域内形成像素电极和薄膜晶体管，数据线上方形成有遮挡漏光区域的遮挡层。制造方法包括：形成包括栅线和栅电极的图形；形成包括数据线、漏电极、源电极和TFT沟道的图形；形成包括钝化层过孔的图形；沉积透明导电薄膜和遮光金属薄膜，通过构图工艺形成包括像素电极和遮挡层的图形，像素电极通过钝化层过孔与漏电极连接，遮挡层位于数据线的上方。本发明通过在数据线上方形成遮挡层，当彩膜基板与阵列基板不能准确对位或受到外

专利类型：发明专利

专利号：CN200910078642.2

专利申请（专利权）人：北京京东方光电科技有限公司

专利发明（设计）人：董敏

主权项：一种TFT-LCD阵列基板，包括形成在基板上的栅线和数据线，所述栅线和数据线限定的像素区域内形成像素电极和薄膜晶体管，其特征在于，所述数据线上方形成有遮挡漏光区域的遮挡层。

专利地区：北京