彩膜基板及其制造方法和液晶面板专利登记公告

专利名称：彩膜基板及其制造方法和液晶面板

摘要：本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法和液晶面板。该方法中，黑矩阵的图案与任一一种有色像素的图案一起形成，且具体步骤为：在衬底基板上涂覆一种有色像素材料层和黑矩阵材料层；涂覆光刻胶，并曝光形成半保留区域；进行显影，半保留区域保留部分厚度的光刻胶；刻蚀形成有色像素的图案；进行光刻胶灰化操作，半保留区域的光刻胶完全去除，完全保留区域的光刻胶保留一定厚度；刻蚀形成黑矩阵的图案。本发明的彩膜基板中：黑矩阵图案覆盖在任一一种有色像素的材料层之上。本发明的液晶面板包括本发明的彩膜基板。本发明采用黑矩阵与任一一种有色像素一

专利类型：发明专利

专利号：CN200910078646.0

专利申请（专利权）人：北京京东方光电科技有限公司

专利发明（设计）人：张文余;明星;周伟峰

主权项：一种彩膜基板的制造方法，包括：采用构图工艺在衬底基板上逐次分别形成至少一种有色像素的图案，并形成黑矩阵的图案，其特征在于，所述黑矩阵的图案与任一一种有色像素的图案一起形成，且具体形成步骤包括：在所述衬底基板上涂覆一种有色像素材料层；在所述有色像素材料层上涂覆黑矩阵材料层；在所述黑矩阵材料层上涂覆光刻胶；进行掩膜曝光显影操作，在所述光刻胶上形成完全去除区域、半保留区域和完全保留区域，所述完全去除区域的光刻胶被完全去除，所述半保留区域保留的光刻胶具有第一厚度，所述完全保留区域保留的光刻胶具有第二厚度，且所述第

专利地区：北京