超过800万条软件/作品著作权公告信息!

提供基于中国版权保护中心以及各省市版权局著作权登记公告信息查询

具有自释放氟碳基体外层的定影器元件涂层专利登记公告


专利名称:具有自释放氟碳基体外层的定影器元件涂层

摘要:自释放定影器元件和具有该定影器元件的成像装置,其中该定影器元件包括了衬底和其上的具有表面的外层聚合物基体,其中该外层聚合物基体包含氟聚合物材料和氟碳链,其中该氟碳链连接至所述氟聚合物材料,且其中该定影器元件由于能够自释放而减少或免除了对定影油的需求。

专利类型:发明专利

专利号:CN200910246031.4

专利申请(专利权)人:施乐公司

专利发明(设计)人:卡洛琳·穆尔拉格;胡南星

主权项:自释放定影器元件,其包括衬底和其上的具有表面的外层聚合物基体,所述外层聚合物基体包含氟聚合物材料和氟碳链,其中该氟碳链连接至所述氟聚合物材料。

专利地区:美国