光刻设备和定位设备专利登记公告

专利名称：光刻设备和定位设备

摘要：一种光刻设备包括可移动的第一物体和包括热交换体的热交换器，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料并被配置以通过与可移动的第一物体进行热量交换来影响第一物体的温度；和发生器，其被配置以将电磁场供给至热交换体，以改变热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910253829.1

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：N·J·吉利森;T·P·M·卡迪

主权项：一种光刻设备，包括：可移动的第一物体；和热交换器，其包括：热交换体，该热交换体包括具有电热或磁热性质的材料，并被配置以通过与所述可移动的第一物体交换热量来影响所述可移动的第一物体的温度，和发生器，其被配置以将电磁场供给至所述热交换体，以改变所述热交换体的温度，以便冷却或加热所述第一物体。

专利地区：荷兰