相位调制凹槽阵列微型光谱仪专利登记公告

专利名称：相位调制凹槽阵列微型光谱仪

摘要：相位调制凹槽阵列微型光谱仪包括一个构建在基底(3)中的微型干涉仪二维阵列，每个微型干涉仪设有第一凹槽(1)，在不同的微型干涉仪中的第一凹槽(1)在基底(3)里的深度不同，在基底(3)的下表面设有CCD(4)，在基底(3)和CCD(4)中间有一层遮挡物(5)；遮挡物(5)把大部分CCD面元遮住，但在每一个微型干涉仪下方的遮挡物(5)上留有透光孔，透光孔的孔径小于CCD(4)所能探测到的入射光波的最小波长，透光孔位于第一凹槽下方的任意位置；在微型干涉仪二维阵列的上方有两个共焦的透镜(6)，在两个共焦的透镜(6

专利类型：发明专利

专利号：CN200910264252.4

专利申请（专利权）人：南京邮电大学;香港中文大学

专利发明（设计）人：何浩培;杨涛;李千秋;黄维;蔡潮盛

主权项：一种相位调制凹槽阵列微型光谱仪，其特征在于该光谱仪包括一个构建在基底(3)中的微型干涉仪二维阵列，每个微型干涉仪设有第一凹槽(1)，在不同的微型干涉仪中的第一凹槽(1)在基底(3)里的深度不同，在基底(3)的下表面设有CCD(4)，在基底(3)和CCD(4)中间有一层遮挡物(5)；遮挡物(5)把大部分CCD面元遮住，但在每一个微型干涉仪下方的遮挡物(5)上留有透光孔，透光孔的孔径小于CCD(4)所能探测到的入射光波的最小波长，透光孔位于第一凹槽下方的任意位置；为了提高整个器件的灵敏度，透光孔位于第一凹槽(

专利地区：江苏