用于为集成电路设计形成基于扫描的测试设计的系统专利登记公告

专利名称：用于为集成电路设计形成基于扫描的测试设计的系统

摘要：粗略地说，根据所考虑的电路设计来优化基于扫描的测试架构。在一个实施例中，形成多个候选测试设计。对于每一个候选测试设计来说，根据电路设计和候选测试设计而生成多个测试矢量，并且这些测试矢量优选是使用同一ATPG算法生成的，其中所述算法会在下游使用，以便生成用于制造集成电路器件的最终测试矢量。在这里为每一个候选测试设计都确定了故障覆盖率之类的测试协议质量量度，并且根据对这些测试协议质量量度所进行的比较来选择其中一个候选测试设计，以便在集成电路器件中加以实施。优选地，只有能被ATPG生成的完整测试矢量集合中的采样才被用于确定每一个特定候选测试设计所要发现的潜在故障的数量。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN200920174288.9

专利申请（专利权）人：新思科技有限公司

专利发明（设计）人：R·卡普尔;J·塞基阿;R·宇普鲁里;P·诺蒂雅斯;T·费尔南德斯;S·库尔卡尔尼;A·安巴兰

主权项：一种用于为集成电路设计形成基于扫描的测试设计的系统，包括：形成装置，用于为电路设计形成多个候选测试设计，其中包括生成装置，用于根据电路设计来生成多个测试矢量；生成装置，用于为每一个候选测试设计生成一个测试协议品质因数；以及选择装置，用于根据对为每一个候选测试设计生成的测试协议品质因数的比较来选择其中一个候选测试设计，以便在集成电路器件中实施，其中用于生成多个测试矢量的生成装置使用了预定的自动测试模式生成算法，以及其中用于为每一个候选测试设计生成测试协议品质因数的生成装置包括确定装置，用于仅使用如果预定的自

专利地区：美国