制造导电图形的方法和由此制造的导电图形专利登记公告
专利名称：制造导电图形的方法和由此制造的导电图形
摘要：本发明提供了一种制造导电图形的方法以及通过该方法制造的导电图形，所述方法包括以下步骤：a)在基板上形成导电图形；以及b)通过在卤素溶液中浸渍所述导电图形以使所述导电图形的表面氧化而黑化所述导电图形的表面。
专利类型：发明专利
专利号：CN200980136339.1
专利申请（专利权）人：LG化学株式会社
专利发明（设计）人：全相起;李东郁;黄仁晳;金承旭
主权项：一种制造导电图形的方法，该方法包括：在基板上形成导电图形；以及通过在卤素溶液申浸渍所述导电图形以使所述导电图形的表面氧化而黑化所述导电图形的表面。
专利地区：韩国
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目，不代表该专利由我公司代理取得，上述专利权利属于专利权人，未经（专利权人）许可，擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利，请搜索专利权人联系方式，获得专利权人的授权许可。