圆盘形高密度记录介质专利登记公告

专利名称：圆盘形高密度记录介质

摘要：本发明涉及一种光学记录介质，其中在基材上顺序地形成至少一个记录层和一个光传输层，并且其中光从光传输层侧照射用于记录和/或再现信息信号，所述基材包括注塑部件，并且所述基材具有根据ASTME756-0505在25℃、2000Hz下测量的至少2.15GPa的杨氏模量E和低于160的Q因子，和＞85%的凹点/凹槽结构的可录制性。

专利类型：发明专利

专利号：CN200980157514.5

专利申请（专利权）人：拜尔材料科学股份公司;拜耳材料科技（中国）有限公司

专利发明（设计）人：F-K.布鲁德;W.黑泽;R.奥泽;R.普罗特;A.迈尔;K.希尔登布兰;R.王;I.张

主权项：一种光学记录介质，其中在基材上顺序地形成至少一个记录层和一个光传输层，并且其中光从光传输层侧照射用于记录和/或再现信息信号，所述基材包括注塑部件，并且所述基材具有根据ASTM?E?756?05在25℃、2000?Hz下测量的至少2.15?GPa的杨氏模量E和低于160的Q因子，和＞85%的可录制性。

专利地区：德国