保持垫专利登记公告

专利名称：保持垫

摘要：提供一种可提高保持面的平坦性精度并提升被研磨物的面内均一性的保持垫。保持垫(10)具备胺基甲酸乙酯薄片(2)。此胺基甲酸乙酯薄片(2)是借由湿式凝固法而形成的，具有用以保持被研磨物的保持面(Sh)。胺基甲酸乙酯薄片(2)具有微多孔构造的表肤层(2a)，在比表肤层(2a)更为内侧上，则形成有横跨大致全体厚度的多数个发泡(3)。在胺基甲酸乙酯薄片(2)中，当厚度设为(t)时，自背面(Sr)至朝内侧厚度0.1t分量的范围内形成有发泡(3)的底部。自背面(Sr)至朝向内侧厚度0.1t分量并与背面(Sr)相平行的剖

专利类型：发明专利

专利号：CN200980161122.6

专利申请（专利权）人：富士纺控股公司

专利发明（设计）人：川村佳秀;岩尾智浩;佐藤章子

主权项：一种保持垫，其特征在于：具备借由湿式凝固法而形成有纵型发泡，用以保持被研磨物的保持面的树脂薄片的保持垫中，所述的树脂薄片自所述的保持面的背面至朝向内侧延伸全体厚度的10％分量为止的范围内，形成所述的发泡的底部，且自所述的背面至朝向内侧延伸所述的全体厚度的10％分量并与所述的背面相平行的剖面、以及朝向内侧延伸40％分量并与所述的背面相平行的剖面间所包挟的下层部的空隙率是介于70％以上95％以下。

专利地区：日本