用于辐射吸收度测量的装置及其校准方法专利登记公告

专利名称：用于辐射吸收度测量的装置及其校准方法

摘要：在此说明了一种用于辐射吸收度测量的装置以及一种用于校准这种装置的方法。这种装置包括一个辐射源(4，16)，该辐射源发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射；一个检测所述电磁辐射的检测器(2)；当处于一种测量模式时，所述辐射的至少一部分已经穿过一种介质并且在到达所述检测器之前在离所述辐射源(4，16)一段距离处已经被一个表面(5)反射。该装置的特征在于，所述装置进一步包括一个流体校准单元(8)，这个流体校准单元被适配为安排在所述辐射源(4，16)与所述检测器(2)之间的电磁辐射的路径中。这种用

专利类型：发明专利

专利号：CN200980162144.4

专利申请（专利权）人：奥普斯公司

专利发明（设计）人：斯万特·瓦林;列夫·尤内鄂斯

主权项：一种用于辐射吸收度测量的装置，包括：一个辐射源(4，16)，该辐射源发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射，一个检测所述电磁辐射的检测器(2)，当处于一种测量模式时，所述辐射的至少一部分已经穿过一种介质并且在到达所述检测器(2)之前已经在离所述辐射源(4，16)一段距离处被一个表面(5)反射，其特征在于，所述装置进一步包括一个流体校准单元(8)，该流体校准单元被适配为安排在所述辐射源(4，16)与所述检测器(2)之间的电磁辐射的路径中。

专利地区：瑞典