测量光学表面形状的方法以及干涉测量装置专利登记公告

专利名称：测量光学表面形状的方法以及干涉测量装置

摘要：提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（

专利类型：发明专利

专利号：CN200980162499.3

专利申请（专利权）人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

专利发明（设计）人：R.弗赖曼;B.多尔班德;S.舒尔特;A.霍夫;F.里彭豪森;M.曼格;D.纽格鲍尔;H.艾斯勒;A.比科

主权项：一种测量测试物体的光学表面的形状的方法，包括：－提供产生测量波的干涉测量装置，－在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置所述干涉测量装置和所述测试物体，使得所述测量波照明所述光学表面的不同区域，－在所述不同测量位置处，测量所述测量装置关于所述测试物体的位置坐标，－通过在每个所述测量位置处使用所述测量装置干涉地测量所述测量波在与所述光学表面的各个区域相互作用之后的波前而获得表面区域测量，以及－通过基于所述干涉测量装置在每个所述测量位置处的所测量的位置坐标计算地组合所述子表面测量，而确定所述光学表面的实际形状。

专利地区：德国