光学元件及其制造方法、原盘及其制造方法以及显示装置专利登记公告

专利名称：光学元件及其制造方法、原盘及其制造方法以及显示装置

摘要：一种光学元件及其制造方法、原盘及其制造方法以及显示装置，能够抑制产生条纹，防眩光性和对比度优良。光学元件具备：在表面形成凸部即多个结构体的基体材料、在基体材料上形成硬涂层，在基体材料的表面利用结构体形成凹凸形状，在硬涂层表面形成模仿基体材料凹凸形状的凹凸形状，硬涂层表面的凹凸形状比基体材料的凹凸形状平缓，结构体底面的大小在最小距离Rm以上最大距离RM以下(其中，最小距离Rm：从结构体底面重心到底面周边缘的最短距离的最小值，最大距离RM：从结构体底面重心到底面周边缘的最大距离的最大值)的范围内随机变化，多个

专利类型：发明专利

专利号：CN201010003218.4

专利申请（专利权）人：索尼公司

专利发明（设计）人：渡边仁;内田厚;石渡正之;水野干久;富永守雄;大柳英树

主权项：一种光学元件，其中，具备：在表面形成有凸部即多个结构体的基体材料、在所述基体材料上形成的硬涂层，在所述基体材料的表面利用所述结构体而形成凹凸形状，在所述硬涂层的表面形成有模仿所述基体材料凹凸形状的凹凸形状，所述硬涂层表面的凹凸形状比所述基体材料的凹凸形状平缓，所述结构体底面的大小在最小距离Rm以上最大距离RM以下(其中，最小距离Rm：从所述结构体底面的重心到底面周边缘的最短距离的最小值，最大距离RM：从所述结构体底面的重心到底面周边缘的最大距离的最大值)的范围内随机变化，所述多个结构体中相邻的所述结构体的

专利地区：日本