平台修正用磨石专利登记公告

专利名称：平台修正用磨石

摘要：本发明提供平台修正用磨石，设于抛光装置，该抛光装置是于抛光平台上设置具有修正用磨石固持用孔部的平台修正用载体，且在该载体之孔部固持修正用磨石，使抛光平台及载体分别旋转，并对该抛光平台供给游离磨粒以将该抛光平台修正抛光；且该载体之孔部所配置修正用磨石的形状是圆形之中心部角度为180°～90°的扇状。依本发明，实际使用游离磨粒将抛光工作件抛光时，平台表面所存在之开放的粒状石墨孔充分保持着磨粒，因该保持力增加而可得到稳定的抛光力，而且细微平台面转印至抛光工作件，可得到表面粗度良好的待加工物。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010100490.4

专利申请（专利权）人：信浓电气制炼株式会社

专利发明（设计）人：安冈快;清水强;风间贤一

主权项：一种平台修正用磨石，设于抛光装置中，该抛光装置是于抛光平台上设置具有修正用磨石固持用孔部的平台修正用载体，且在该载体之孔部固持修正用磨石，使抛光平台及载体分别旋转，并对该抛光平台供给游离磨粒以将该抛光平台修正抛光；其特征在于：该载体之孔部所设置的修正用磨石之形状，是圆形之中心部角度为180°～90°的扇状。

专利地区：日本