探测值校正设备专利登记公告

专利名称：探测值校正设备

摘要：本发明涉及用于校正多能量成像系统的投影图像的探测值的探测值校正设备(10)。散射贡献提供单元(11)为探测值的不同强度、不同能量和在探测表面上的不同位置提供散射贡献。散射贡献组合单元(30)将散射贡献相组合以校正探测值，其中所组合的散射贡献表示由投影图像的其它探测值的辐射所引起的散射对将要校正的探测值的贡献，并且其中在考虑了其它探测值的强度、能量和在探测表面上的位置的情况下，将该散射贡献相组合。校正单元(12)通过利用所组合的散射贡献来对投影图像的探测值进行散射校正。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010102935.2

专利申请（专利权）人：皇家飞利浦电子股份有限公司

专利发明（设计）人：M·贝尔特拉姆;J·维格特;S·G·维斯纳

主权项：一种用于校正多能量成像系统的投影图像的探测值(PE(i，j))的探测值校正设备(10)，所述多能量成像系统包括：辐射源(2)，用于发射横穿对象的辐射；和探测单元(6)，其包含探测表面，用于生成取决于已经横穿所述对象的所述辐射的所述探测值(PE(i，j))，其中，探测值(PE(i，j))表示强度、能量和在所述探测表面上的位置，其中，所述探测值校正设备(10)包括：-散射贡献提供单元(11)，其用于针对所述探测值的不同强度、不同能量和在所述探测表面上的不同位置提供散射贡献(κ(RE(k，l)，ρE(k，l)，

专利地区：荷兰