光谱仪杂散光校正方法专利登记公告
专利名称:光谱仪杂散光校正方法
摘要:本发明公开了一种光谱仪杂散光的校正方法和装置,在光谱仪的光信号入射狭缝和色散元件之间的光路上设置可切入的若干个滤色片,在切入各滤色片和不切入滤光片时分别测量同一待测光源,由测得的光谱计算杂散光分布因子,并使用杂散光分布因子校正测量该待测光源或其他光源的杂散光误差,滤色片也可与激光相结合进一步对杂散光进行校正;或者滤光片与激光相结合校正光谱仪测量波段外的光辐射所产生的杂散光,并用激光校正光谱仪测量波段内的杂散光;相应的光谱仪的测控软件中包括杂散光校正程序,能够方便快速地实现上述杂散光的校正。本发明能够实现对
专利类型:发明专利
专利号:CN201010107630.0
专利申请(专利权)人:杭州远方光电信息有限公司
专利发明(设计)人:潘建根;陈双;李倩
主权项:一种光谱仪杂散光校正方法,其特征在于在光谱仪的光信号采集装置和色散元件(4)之间设置可切入光路的一个或一个以上滤色片(6),且包括以下步骤:a)在不切入所述滤色片(6)时测量待测光源的光谱功率;b)将滤色片(6)切入到入射狭缝和色散元件之间的光路上,测量同一待测光源的光谱功率;c)根据步骤a)和步骤b)的测量结果计算得到杂散光分布因子或杂散光校正因子;d)用杂散光分布因子或杂散光校正因子修正不切入上述滤色片(6)时测得的该待测光源或其它光源的光谱功率。
专利地区:浙江
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。