一种非真空环境下配置铜铟镓硒浆料制作光吸收层的方法专利登记公告

专利名称：一种非真空环境下配置铜铟镓硒浆料制作光吸收层的方法

摘要：本发明是有关于一种非真空环境下配置铜铟镓硒浆料制作光吸收层的方法，其主要是在调配铜铟镓硒或铜铟镓硒(硫)浆料时，使用含IB、IIIA及VIA族元素化合物的材料，其中含至多不超过50％的薄片状材料，其余材料形状可为球状或不规则状，再搭配溶剂或相关添加剂搅拌均匀，以配成含铜铟镓硒或铜铟镓硒(硫)浆料，再使用非真空涂布法如刮刀涂布、狭缝涂布法、超音波喷涂法、电镀法或网印法等涂布成光吸收层的前驱层，再经快速退火热处理后形成光吸收层。本发明由于不使用高温还原法和硒化法，节省了设备成本并避免了使用危险的硒化氢，同时由

专利类型：发明专利

专利号：CN201010111510.8

专利申请（专利权）人：昆山正富机械工业有限公司

专利发明（设计）人：陈文仁;杨益郎

主权项：一种非真空环境下配置铜铟镓硒浆料制作光吸收层的方法，其特征在于其是用以在非真空环境下制作铜铟镓硒浆料，该铜铟镓硒浆料是用以涂布在一钼层上而形成一吸收层，该方法系包括以下步骤：首先，依据一配方比例，混合具有薄片形状和其他形状且含IB、IIIA和VIA族元素的二个成份或三个成份或四个成份的粉末材料，以形成含铜铟镓硒的原始混合粉末，且该IB族元素包括铜，该IIIA族元素包括铟或镓或铟镓混合材料，该VIA族元素包括硒或硫或硒硫混合材料；接着，以原始VIA族元素比例，再添加额外的VIA族元素粉末至该原始混合粉末中，

专利地区：江苏