用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法专利登记公告

专利名称：用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法

摘要：一种用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法，包含：提供一反应槽，包含一阴极、一阳极、及两阳离子透析膜，且该反应槽是由该两阳离子透析膜分隔成的一阴极室、一阳极室、及一介于其间的废液处理室；将一硫酸溶液注入该阳极室中；将一氢氧化钾溶液注入该阴极室中；将一含硅酸盐的氢氧化钾蚀刻废液导入该废液处理室中；以及施加各该室一电压及一电流密度，以使钾离子自该废液处理室经由该阳离子透析膜进入该阴极室。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010114776.8

专利申请（专利权）人：联仕电子化学材料股份有限公司;金益世股份有限公司

专利发明（设计）人：杨为梁;窦科帝;张广诚

主权项：一种用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法，包含：提供一反应槽，包含一阴极、一阳极、及两阳离子透析膜，且该反应槽是由该两阳离子透析膜分隔成一阴极室、一阳极室、及一介于其间的废液处理室；将一硫酸溶液注入该阳极室中；将一氢氧化钾溶液注入该阴极室中；将一含硅酸盐的氢氧化钾蚀刻废液导入该废液处理室中；以及施加各该室一电压及一电流密度，以使钾离子自该废液处理室经由该阳离子透析膜进入该阴极室。

专利地区：中国