离子发生装置及具备该装置的美容装置专利登记公告
专利名称：离子发生装置及具备该装置的美容装置
摘要：本发明提供一种离子发生装置及具备该离子发生装置的美容装置，可以使向外部的喷出量相对于离子发生量增加。在负离子生成电路(73)中，具备电阻(75)，将和离子放射用的针电极(63)成对设置的对置电极(64)设定为比接地电位高的指定电位。
专利类型：发明专利
专利号：CN201010121268.2
专利申请（专利权）人：松下电工株式会社
专利发明（设计）人：谷口真一
主权项：一种离子发生装置，具有离子放射用的第1电极和低电位方的第2电极，基于对上述第1电极施加高电压使两个电极间产生放电来发生离子，其特征为，具备电位设定机构，将上述第2电极设定为上述第1电极的电位与接地电位之间的电位。
专利地区：日本
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目，不代表该专利由我公司代理取得，上述专利权利属于专利权人，未经（专利权人）许可，擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利，请搜索专利权人联系方式，获得专利权人的授权许可。