光学用保护膜及其制造方法以及偏光片及其制造方法专利登记公告

专利名称：光学用保护膜及其制造方法以及偏光片及其制造方法

摘要：本发明涉及一种光学用保护膜及其制造方法以及偏光片及其制造方法。提供一种特别适合作为偏光片使用的，透明性优异，具有光学上各向同性，同时耐湿性良好，耐久性优异，而且，与偏光膜的密封性良好的具有硬涂层功能的光学用保护膜，以及使用了该光学用保护膜的偏光片。该光学用保护膜为将硬涂层(A)、树脂层(B)以及粘着剂层(C)依次层积而形成的层积膜，各层均含有80质量％以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物，该偏光片为使偏光膜与上述光学用保护膜的粘着剂层(C)面接合而层积得到，进一步，在该偏光膜的另一面侧依次层积粘着剂层(D)以及

专利类型：发明专利

专利号：CN201010124408.1

专利申请（专利权）人：琳得科株式会社

专利发明（设计）人：所司悟;泉达矢

主权项：一种光学用保护膜，其为将硬涂层(A)、树脂层(B)以及粘着剂层(C)依次层积而形成的层积膜，其特征在于，各层均含有80质量％以上的(甲基)丙烯酸酯类化合物。

专利地区：日本