一种用于管状高分子材料支架内表面改性的低温等离子体处理装置专利登记公告

专利名称：一种用于管状高分子材料支架内表面改性的低温等离子体处理装置

摘要：本发明公开了一种用于对管状高分子材料支架内表面进行改性的低温等离子体处理装置。该装置包括：电极环(7)及石英放电管(6)，其两端分别与快速真空密封接头(13)连接，通过锁紧螺母(5)、(8)固定于真空快速转接管(4)、(9)；其中，一端通过真空转接管连接于进气口；另一端通过真空转接管连接至三通，三通的另外两端分别为气压计接口及机械泵接口。利用本发明所述装置，可产生细长、均匀的等离子体，用于对管状高分子材料支架内壁进行改性处理，使其内表面活化或接入活性基团而不改变支架本体性质，且工作温度低，不会对材料产生热

专利类型：发明专利

专利号：CN201010125946.2

专利申请（专利权）人：清华大学

专利发明（设计）人：吴琼;朱文超;汪沛沛;蒲以康;陈国强

主权项：一种等离子体处理装置，其特征在于：所述等离子体处理装置包括电极环(7)、放电管(6)和进气口(1)；其中，所述放电管(6)套设在电极环(7)内。

专利地区：北京