一种基于分子印迹的纳米结构薄膜及其制备方法和应用专利登记公告

专利名称：一种基于分子印迹的纳米结构薄膜及其制备方法和应用

摘要：本发明涉及一种基于分子印迹的纳米结构薄膜，其具有三维有序的孔结构：大孔-介孔-印迹微孔。本发明还涉及所述纳米结构薄膜的制备方法，包括如下步骤：将胶体颗粒均匀分散到溶剂中，自组装在基片上，挥干溶剂，得到胶体晶体；将印迹分子加入到含有硅烷交联剂、染料分子和表面活性剂的乙醇水溶液中，加热回流，得到溶胶；将所述溶胶渗透到所述胶体晶体中，加热老化；除去胶体颗粒、表面活性剂和已印迹的分子。本发明的纳米结构薄膜不仅对痕量硝基类爆炸物具有响应速度快、选择性高和灵敏度高等优点，而且抗干扰能力强，制备方法简便，成本低廉，重现

专利类型：发明专利

专利号：CN201010131912.4

专利申请（专利权）人：清华大学

专利发明（设计）人：李广涛;朱伟

主权项：一种基于分子印迹的纳米结构薄膜，其特征在于，具有三维有序的孔结构：大孔-介孔-印迹微孔。

专利地区：北京