掩模电极的光电化学微刻蚀加工方法及装置专利登记公告

专利名称：掩模电极的光电化学微刻蚀加工方法及装置

摘要：一种掩模电极的光电化学微刻蚀加工方法及装置，涉及制造技术中的微细加工领域。本发明采用的掩模电极由玻璃基板、ITO氧化铟锡层以及光刻胶掩模层构成，其中导电透光的ITO层作为电化学加工的工具电极并可透过激光束，光刻胶掩模层能够限制激光束和电化学电极的作用区域，起到光束掩模和电场掩模的双重作用。激光束透过掩模电极时将掩模图形成像在工件表面，在工件和电解液之间由于激光的辐照作用，产生冲击波的力效应使钝化层发生应力腐蚀被去除。同时在光电化学反应作用下，激光照射部位的工件材料被刻蚀去除。本发明能够有效地提高复杂图形的

专利类型：发明专利

专利号：CN201010132469.2

专利申请（专利权）人：江苏大学

专利发明（设计）人：张朝阳;张永康;鲁金忠;叶云霞;王耀民;陈飞

主权项：一种掩模电极的光电化学微刻蚀加工方法，利用激光束照射和电化学反应的复合作用进行金属材料的微细加工，其特征在于：利用氧化铟锡(ITO)导电玻璃制作具有微细图形结构的掩模电极，该掩模电极由玻璃基板、ITO氧化铟锡层以及光刻胶掩模层构成；玻璃基板用于掩模电极的安装固定；导电透光的氧化铟锡层作为电化学加工的工具电极并可透过激光束，保证了激光的有效传输及其与电化学反应的能量耦合；在氧化铟锡层之上利用光刻技术制作具有微细图形结构的光刻胶层，该光刻胶掩模层能够限制激光束和电化学电极的作用区域，起到光束掩模和电场掩模的双

专利地区：江苏