蓝宝石图形衬底的制作方法专利登记公告

专利名称：蓝宝石图形衬底的制作方法

摘要：本发明公开了一种蓝宝石图形衬底的制作方法，具体步骤是：(1)在蓝宝石的上表面沉积一层低折射率材料、厚度为1埃-999埃的薄膜；(2)用光阻在所述的薄膜上制备掩模图形；(3)通过刻蚀，将光刻胶掩模的图形转移到所述的薄膜上，得到图形下底的宽度为0.5-3μm、间距0.5-3μm的凸起，凸起厚度为1埃-999埃；(4)清洗蓝宝石，去除残留的光阻。本发明具有能大大降低制作PSS成本、增加光的全反射角从而更有利于出光、提高出光效率、更有利于激光剥离、提高成品LED芯片优良率的优点。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010143529.0

专利申请（专利权）人：南昌大学

专利发明（设计）人：江风益

主权项：一种蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：(1)、在蓝宝石的上表面沉积一层低折射率材料、厚度为1埃---999埃的薄膜；(2)、用光阻在所述的薄膜上制备掩模图形；(3)、通过刻蚀，将光刻胶掩模的图形转移到所述的薄膜上，得到图形下底的宽度为0.5--3μm、间距0.5--3μm的凸起，凸起厚度为1埃---999埃；(4)、清洗蓝宝石，去除残留的光阻。

专利地区：江西