抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法以及抗蚀剂用聚合物用原料化合物专利登记公告

专利名称：抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法以及抗蚀剂用聚合物用原料化合物

摘要：本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时，线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物，所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元，所述酸分解性单元的结构是由下述式(1)或(2)来表示。n表示2～24的整数。J为，当n＝2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基，当n≥3时，表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基；E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K1和K2表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价噁唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种，L1和L2表示-C(O)

专利类型：发明专利

专利号：CN201010145635.2

专利申请（专利权）人：三菱丽阳株式会社

专利发明（设计）人：百濑阳;大竹敦;中村雅;上田昭史

主权项：下述式(7)表示的化合物，在式(7)中，S表示硫原子；K1和K2各自独立地表示亚烷基；L1和L2各自独立地表示选自由-C(O)O-、及-OC(O)-组成的组中的至少一种；M1至M3各自独立地表示亚烷基；Y1和Y2各自独立地表示酸分解性键；k1、k2、l1、l2、m1、m2、m3及n1各自表示K1、K2、L1、L2、M1、M2、M3、及Y2的数量，其中k1、k2、l1和l2为1，m1、m2、m3及n1独立地为0或1；其中，上式(7)表示的化合物，是对于下述式(14)所示的化合物，加成下述式(15)所示的化合

专利地区：日本