一种微纳米尺度平面周期性结构的反演方法专利登记公告

专利名称：一种微纳米尺度平面周期性结构的反演方法

摘要：一种微纳米尺度平面周期性结构的反演方法，属于显微镜成像分析、平面结构检测、光测力学技术领域。本发明以扫描电子显微镜的扫描线为参考栅，微纳米表面周期性结构为试件栅，通过两栅发生几何叠加形成云纹，再通过微小的沿着与扫描线相垂直的方向随机平移扫描电镜的试件平台，即产生相移几何云纹。将得到的云纹图，根据随机相移算法求出云纹条纹相位图，通过该方法的反演得到其试件周期性结构。此方法综合了云纹法灵敏度高、测量视场大，及扫描电子显微镜分辨率高、空间定位方便等优点。该方法可用到其它带扫描线的显微镜下，用于平面周期性结构的反

专利类型：发明专利

专利号：CN201010156007.4

专利申请（专利权）人：清华大学

专利发明（设计）人：谢惠民;胡振兴;王怀喜

主权项：一种微纳米尺度平面周期性结构的反演方法，其特征在于该方法按如下步骤进行：1)将带有微纳米尺度平面周期性结构的试件置于扫描电子显微镜的试件平台上，进行扫描得到试件栅图像，并利用该图像计算试件栅的平均栅距pr，调整试件平台，使得扫描线与试件栅线平行；2)调整扫描电子显微镜的放大倍数和区域内的扫描线的线数，使得扫描线的间距与试件栅间距相同，这时试件栅与扫描线叠加出现几何云纹条纹图，该几何云纹条纹图作为初始云纹条纹图，记录下初始云纹条纹图，并通过旋转电镜扫描线，确定云纹图条纹的级数；3)沿垂直于扫描线的方向微小移

专利地区：北京