高精度氧化铝抛光粉及其生产方法专利登记公告

专利名称：高精度氧化铝抛光粉及其生产方法

摘要：本发明公开了一种氧化铝抛光粉及其生产方法，其特征在于：D50粒径小于2.0μm；且满足：D10≥0.5D50；D90≤2D50；D100≤3D50。制备方法，包括如下步骤：将原料α-氧化铝与水打浆，然后分级，获得产物。本发明的氧化铝抛光粉，具有中位径粒小，粒度分布范围窄的特点，抛光粉的抛光精度稳定性容易控制，产品质量波动小，可用于液晶显示屏用玻璃，平面显示、光学元件、超薄玻璃基片、玻璃磁盘等电子产品元器件的精密抛光加工；同时高精度氧化铝抛光粉还可用于制备化学机械抛光用氧化铝抛光液。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010170419.3

专利申请（专利权）人：上海高纳粉体技术有限公司

专利发明（设计）人：郝祥;曹红霞;赵月昌;高玮;杨筱琼;张鹏;顾捐永;李冉

主权项：高精度氧化铝抛光粉，其特征在于：D50粒径小于2.0μm；且满足：D10≥0.5D50；D90≤2D50；D100≤3D50。

专利地区：上海