镀膜件及其制备方法专利登记公告

专利名称：镀膜件及其制备方法

摘要：本发明提供一种镀膜件及其制备方法。该镀膜件包括金属基体及形成于金属基体表面的硬质层，该硬质层为一氮化铬-氮化硅的复合膜层。该镀膜件的制备方法包括如下步骤：提供一金属基体；采用真空溅镀法在该金属基体上溅镀硬质层，该硬质层为氮化铬-氮化硅的复合膜层；溅镀该硬质层同时开启铬靶和硅靶，以氮气为反应气体，铬靶的电源功率为1-2KW，硅靶的电源功率为10-12KW。所述的镀膜件具有高的硬度、耐磨性及耐腐蚀性。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010584978.9

专利申请（专利权）人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司

专利发明（设计）人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;马楠

主权项：一种镀膜件，其包括金属基体及形成于金属基体上的硬质层，其特征在于：所述硬质层为一氮化铬?氮化硅的复合膜层。

专利地区：广东