一种光电成像系统性能评估实验分析方法专利登记公告
专利名称:一种光电成像系统性能评估实验分析方法
摘要:本发明涉及一种光电成像系统性能评估实验分析方法,包括以下步骤:建立光电成像系统性能预测模型;在性能预测模型中划分输入因素集和输出指标集;对输入因素集进行筛选实验;根据筛选实验结果划分模型输入因素水平,建立模型输入因素水平表;根据模型输入因素水平表,选取正交表,形成实验方案;调用性能预测模型计算各实验方案对应的输出指标集;利用输出指标集进行极差分析和灵敏度分析,结束本次实验分析过程。本发明方法可以以最少的实验次数全面、典型、均衡可比的反映实验输入各因素对实验指标的影响,通过极差法分析确定各输入因素的最优水平
专利类型:发明专利
专利号:CN201010610980.9
专利申请(专利权)人:中国科学院沈阳自动化研究所
专利发明(设计)人:赵怀慈;刘海峥;郝明国;花海洋;王立勇
主权项:一种光电成像系统性能评估实验分析方法,其特征在于包括以下步骤:建立光电成像系统性能预测模型;在性能预测模型中划分输入因素集和输出指标集;对输入因素集进行筛选实验;根据筛选实验结果划分模型输入因素水平,建立模型输入因素水平表;根据模型输入因素水平表,选取正交表,形成实验方案;调用性能预测模型计算各实验方案对应的输出指标集;利用输出指标集进行极差分析和灵敏度分析,结束本次实验分析过程。
专利地区:辽宁
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。