投影掩膜版的测试系统专利登记公告

专利名称：投影掩膜版的测试系统

摘要：本发明提供了投影掩膜版的测试系统，用于基于图像获取单元获得的待测试的掩膜版的缺陷图像进行分析，根据分析结果判断所述待测试的投影掩膜版的质量是否符合要求，所述投影掩膜版测试系统包括：图像分析单元，用于将所述缺陷图像与所述投影掩膜版对应的设计图像进行比较，获得所述缺陷图像与所述设计图像的偏差率；测试判断单元，基于所述图像分析单元输出的偏差率，与最大允许偏差率比较，所述输出偏差率未超出所述最大允许偏差率，则所述测试判断单元判断所述投影掩膜版质量符合要求；反之，所述测试单元判断所述投影掩膜版质量不符合要求。本发明

专利类型：发明专利

专利号：CN201010613371.9

专利申请（专利权）人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

专利发明（设计）人：郭贵琦;赵蓓

主权项：一种投影掩膜版测试系统，用于基于图像获取单元获得的待测试的掩膜版的缺陷图像进行分析，根据分析结果判断所述待测试的投影掩膜版的质量是否符合要求，其特征在于，所述投影掩膜版测试系统包括：图像分析单元，用于将所述缺陷图像与所述投影掩膜版对应的设计图像进行比较，获得所述缺陷图像与所述设计图像的偏差率；测试判断单元，基于所述图像分析单元输出的偏差率，与最大允许偏差率比较，所述输出偏差率未超出所述最大允许偏差率，则所述测试判断单元判断所述投影掩膜版质量符合要求；反之，所述测试单元判断所述投影掩膜版质量不符合要求。

专利地区：上海