一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法专利登记公告

专利名称：一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法

摘要：一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法，其特征在于它包括如下步骤：①由PDMS基体和固化剂混合形成PDMS混合剂；②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中，形成苯甲酮溶液；在PDMS中加入苯甲酮，形成对紫外光敏感的PDMS；③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡，再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净，而后用氮气吹干；④使用紫外灯对其进行曝光；⑤曝光后，进行后烘，PDMS未曝光的部分被固化，PDMS曝光的部分保持原来的状态；⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡去除；将玻璃片用异丙醇冲洗干净，后用氮气吹干；完成图形的形成

专利类型：发明专利

专利号：CN201010615844.9

专利申请（专利权）人：国家纳米技术与工程研究院

专利发明（设计）人：高鹏;牟诗城;徐超;吴元庆;屈怀泊

主权项：一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法，其特征在于它包括如下步骤：①由PDMS基体和固化剂按10∶1混合形成PDMS混合剂；②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中，形成苯甲酮溶液；在PDMS中加入苯甲酮，形成对紫外光敏感的PDMS；把这种混合液称作光敏PDMS；③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡12分钟，再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净，而后用氮气吹干；④将光敏PDMS旋涂在玻璃片上，把光刻所用光刻铬掩膜板置于玻璃片之上，在铬板和玻璃片之间保持一定的空隙；使用紫外灯对其进行曝光；曝光的紫外波长＜365

专利地区：天津